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Applikationslabore

Das INP Greifs­wald verfügt über vielfälti­ge Dia­gnos­tik-Me­tho­den zur Ana­ly­se von Plas­ma­pro­zes­sen und Plas­maquel­len, von plas­ma­be­han­del­ten Oberflächen und spe­zi­el­len Plas­ma­an­wen­dun­gen, wie z.B. bio­me­di­zi­ni­sche An­wen­dun­gen und Licht­bo­gen­plas­men in Schalt­stre­cken, zum Schnei­den und zum Schweißen.

Hier erhalten Sie einen Überblick über unsere Applikationslabore:

Die Eigenschaften von Materialien und die Wechselwirkung der Materialien mit der Umgebung sind vorrangig durch die Oberflächenbeschaffenheit bestimmt. Mit Hilfe der Plasmatechnologie ist es möglich, nahezu jede Oberflächeneigenschaft gezielt zu modifizieren und auf diese Weise neuartige Materialoberflächen mit speziellen Funktionen herzustellen. Die Analyse von Oberflächen ist eines der Spezialgebiete des INP Greifswald. Das vorhandene Spektrum an Diagnostiken, das Know-how bei der Bedienung sowie die Methodik zur Auswertung der Messdaten werden stetig erweitert und verbessert.

Analyse von Topographie und Morphologie

  • Hochauflösende Rasterelektronenmikroskopie (HR- SEM)
    • laterale Auflösung 1,0 nm
    • effektive Vergrößerung: 1.000.000-fach
    • Mikroskopie ohne Artefakte unter Verwendung des Gentle-Beam Modus
    • (Beschleunigungsspannung ab 100 V, Metallisierung der Probe nicht notwendig)
    • quantitative 3D-Darstellung der Probenoberfläche
  • Transmissions-Rasterelektronenmikroskopie (STE M)
    • Auflösung im STEM-Bild 0,8 nm bei 30 kV
    • hochqualitative und ultradünne Querschliffe mittels Cross Section Polishing und Ultramikrotomie
  • Rasterkraftmikroskopie (AFM)
    • Scanbereich: max. 100 μm x 100 μm für Übersichtsaufnahmen
    • ≤ 10 μm x 10 μm für Detailaufnahmen
    • ≤ 1 μm x 1 μm für hochauflösende Aufnahmen
  • Profilometrie
    • Höhenauflösung: 4 nm
  • Weißlichtinterferometrie
    • 3D-Oberflächenprofilmeßgerät
    • Höhenauflösung: xx nm
  • Lichtmikroskopie mit 3D-Funktion
    • Auflicht- und Durchlichtmikroskopie

Bestimmung der chemischen Zusammensetzung, Bindung und Struktur

  • Hochauflösende Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie (XPS)
    • laterale Auflösung > 27 μm
    • Energieauflösung: 1 eV
    • 2D-Imagingmodus
  • Energiedispersive Röntgenspektroskopie (EDX)
    • schnelle quantitative Elementanalyse für Elemente ab Ordnungszahl 5 (Bor)
  • Röntgendiffraktometrie (XRD)
    • Analyse der Kristallstruktur und Gitterparameter
    • Korngrößenbestimmung
    • Schichtdickenbestimmung (20 nm bis 150 nm)
  • FTIR -Spektroskopie
    • Qualitative chemische Analyse funktioneller Gruppen im MIR- Spektralbereich
    • Probenspezifische Konfigurationen: ATR, IRR AS, Transmission

Bestimmung der Verschleißfestigkeit

  • Abrasionstest
    • Charakterisierung der Kratz- und Abriebfestigkeit von planaren Proben
  • Kalottenschliffverfahren
    • Schichtdickenmessung ab 200 nm
    • Diagnostik von Mehrschichtstrukturen
    • Charakterisierung der Abriebparameter der Schichten

Untersuchung von mechanischen Eigenschaften

  • Mikroindenter
    • Messbare Härte: 0,001 – 120.000 N/mm2
    • Vickers-Messkopf
    • Lastbereich: 0,1 bis 2000 mN
    • Kraftauflösung: < 400 nN
    • Wegauflösung: < 100 pm
  • Nanoindenter
    • Bestimmung von Härte und E-Modul dünner Schichten/Materialien
    • Lastbereich: 0,1 bis 100 mN
    • Kraftauflösung: 3 nN
    • Tiefenauflösung: 3 pm
    • Tiefenmessung bis 100 µm

Bestimmung von Kontaktwinkel und Oberflächenenergie

  • Kontaktwinkelmessgeräte
    • Minimales Tropfenvolumen: 0,5 μl
    • Testung mit bis zu 4 Flüssigkeiten
    • inklusive Videofunktion

Bestimmung der optischen Eigenschaften 

  • UV -Vis-Spektralphotometrie
    • Wellenlängenbereich: 100 nm bis 200 nm
    • optische Konstanten (Brechungsindex, Extinktionskoeffizient) und geometrische Schichtdicke von Einzelschichten
    • Abschätzung der Bandlücke von halbleitenden Materialien
  • Optische Ellipsometrie
    • Spektralbereich: 370 nm bis 1000 nm
    • grundlegende optische Konstanten
    • Dispersionseigenschaften der Schichten
    • Müller-Matrix
    • Schicht-Dicken von Multilayer-Systemen
    • Mikrospot-Analyse und Mapping
    • Einsatz im In-situ-Experiment möglich
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Kontakt

Dr. Antje Quade
Themenverantwortliche Oberflächendiagnostik
Projektleiterin

Tel.: +49 3834 - 554 3877
quadeinp-greifswaldde

 

Dr. Jan Schäfer
Themenverantwortlicher Oberflächendiagnostik
Projektleiter

Tel.: +49 3834 - 554 3838
jschaeferinp-greifswaldde

Das Licht­bo­gen­la­bor dient vor­ran­gig an­wen­dungs­ori­en­tier­ten For­schun­gen zur Erhöhung der Zu­verlässig­keit und Le­bens­dau­er von Schalt­geräten. Da­zu wer­den Ex­pe­ri­men­te an Lichtbögen im Va­ku­um oder auch bei Norm­al­druck durch­geführt. Spe­zi­fi­sche An­ord­nun­gen er­lau­ben, das Ver­hal­ten der Lichtbögen so­wie die Be­las­tung der Elek­tro­den in Schal­tern der Nie­der-, Mit­tel- oder Hoch­span­nungs­tech­nik bei un­ter­schied­li­chen Pulslängen nach­zu­stel­len, et­wa durch ge­eig­ne­te Elek­tro­den­a­n­ord­nun­gen in Va­ku­um­kam­mern oder die Ver­wen­dung von Ab­branddüsen. Gleich­zei­tig können die Auf­bau­ten für Grund­la­gen­un­ter­su­chun­gen an Hoch­strom-Lichtbögen und ih­rer In­ter­ak­ti­on mit Elek­tro­den, Wänden und ex­ter­nen Ma­gnet­fel­dern ge­nutzt wer­den. Ein Al­lein­stel­lungs­merk­mal des La­bors ist die An­kopp­lung spe­zi­fi­scher op­ti­scher Dia­gnos­tik zur phy­si­ka­li­schen Ana­ly­se der Lichtbögen. So er­laubt die op­ti­sche Emis­si­ons­spek­tro­sko­pie die Mes­sung von Tem­pe­ra­tu­ren und Spe­zies­dich­ten im Licht­bo­gen und dar­aus die Be­stim­mung al­ler re­le­van­ten Plas­ma­ei­gen­schaf­ten. 

Hoch­ge­schwin­dig­keits­ana­ly­sen die­nen der Un­ter­su­chung der Struk­tur und Dy­na­mik. Zugäng­lich ist auch die Oberflächen­tem­pe­ra­tur von Elek­tro­den.

Der La­borauf­bau um­fasst ins­be­son­de­re: 

  • Ver­suchs­stand zum Be­trieb von Hoch­strom-Lichtbögen mit­tels Stoßstrom-Ge­ne­ra­to­ren mit fol­gen­den Pa­ra­me­tern (Spit­zen­wer­te): Si­nusförmi­ger Strom­im­puls 80 kA/5 ms, 40 kA/10 ms, oder 25 kA/20 ms, Recht­eck­im­pul­se bis 10 kA/2 ms oder 2kA/10ms, fle­xi­ble Elek­tro­den­a­n­ord­nung ein­sch­ließlich An­trieb zur Elek­tro­dens­e­pa­ra­ti­on
  • Va­ku­um­kam­mer ein­sch­ließlich Elek­tro­den­hal­te­rung und ein­sei­ti­gem An­trieb so­wie um­fang­rei­chen Zugängen für Son­den­mes­sun­gen und op­ti­sche Dia­gnos­tik
  • Elek­tri­sche Mess­tech­nik und op­ti­sche Sen­so­rik (Pho­to­di­oden) zur Auf­nah­me von Zeit­rei­hen von Strom, Span­nung und Strah­lungs­si­gna­len in aus­gewähl­ten Spek­tral­be­rei­chen ein­sch­ließlich spe­zi­fi­scher Aus­wer­te­ver­fah­ren
  • 0.5 bzw. 0.75 m Spek­tro­gra­phen mit in­ten­si­vier­ten CCD-Ka­me­ras (Ein­zel­bil­der mit Be­lich­tungs­zei­ten im Zeit­be­reich von ns bis ms) zur op­ti­schen Emis­si­ons­spek­tro­sko­pie, ins­be­son­de­re für zeit­lich, räum­lich und spek­tral hoch­auflösen­de Mes­sun­gen von Spek­tren im Spek­tral­be­reich von 300 nm bis 900 nm bei ei­ner spek­tra­len Auflösung von ca. 0.05 nm
  • Hoch­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra­tech­nik für bis zu 70000 frames/s zur Licht­bo­gen­be­ob­ach­tung ein­sch­ließlich spek­tral se­lek­ti­ver Fil­ter (schmal­ban­di­ge MIF, Kan­ten­fil­ter, Pol­fil­ter) und spe­zi­el­len Op­ti­ken für die par­al­le­le Be­ob­ach­tung mit zwei un­ter­schied­li­chen Fil­tern (Dop­pel­bil­d­op­tik) und ei­ner Ka­me­ra
  • Höchst­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra (4 un­abhängi­ge Bil­der in­ner­halb von z.B. 5 ns mit Be­lich­tungs­zei­ten ab 3 ns) so­wie Stre­ak­ka­me­ra (Zeit­auflösung <1 ns, ei­ne Orts­di­men­si­on) für die Be­ob­ach­tung von Zünd­vorgängen im ns-Be­reich
  • Ther­mo­gra­fie/Py­ro­me­trie zur berührungs­lo­sen Mes­sung von Tem­pe­ra­tu­ren von Oberflächen u.a. von Elek­tro­den Die Dia­gnos­tik­ein­rich­tun­gen (Spek­tro­sko­pie, Hoch­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra und Ther­mo­gra­fie) sind auch mo­bil verfügbar und können für ex­ter­ne Mes­sun­gen ein­ge­setzt wer­den.

Kontakt

Prof. Dr. Dirk Uhrlandt
Forschungsbereichsleiter Materialien und Energie

Tel.: +49 3834 - 554 461
uhrlandtinp-greifswaldde

Im Mit­tel­punkt der an­wen­dungs­ori­en­tier­ten For­schungs­ak­ti­vitäten ste­hen Un­ter­su­chun­gen zur Pro­zess­si­cher­heit, Sta­bi­lität und Ef­fi­zi­enz beim Licht­bo­gen­schweißen. Der Fo­kus liegt in der zeit- und orts­auf­gelösten Ana­ly­se des Licht­bo­gens, sei­ner Ansätze an den Elek­tro­den, des Ma­te­ri­al­trans­fers und des Schmelz­ba­des. Die Plas­ma­dia­gnos­tik er­laubt die Mes­sung von Tem­pe­ra­tu­ren und Spe­zies­dich­ten im Licht­bo­gen und dar­aus die Be­stim­mung al­ler re­le­van­ten Plas­ma­ei­gen­schaf­ten. Hoch­ge­schwin­dig­keits­ana­ly­sen die­nen der Un­ter­su­chung der Struk­tur und Dy­na­mik von Licht­bo­gen und Ma­te­ri­al­trans­fer bis hin zu Zünd­pro­zes­sen. Zugäng­lich ist auch die Oberflächen­tem­pe­ra­tur von Schmel­ze, Trop­fen­de­pot und Trop­fen.

Für die Un­ter­su­chun­gen ste­hen spe­zi­ell aus­gerüste­te La­bo­re für die Dia­gnos­tik an pra­xis­nah nach­ge­bil­de­ten Schweißpro­zes­sen mit mo­der­ner Mess­geräteaus­stat­tung zur Verfügung, ins­be­son­de­re:

  • Ver­suchsstände mit fes­ter Bren­ner­hal­te­rung und fle­xi­bler Be­we­gung von Test­werkstücken un­ter dem Bren­ner zur op­ti­schen Ana­ly­se des Pro­zes­ses aus ver­schie­de­nen Blick­win­keln, u.a. auch par­al­lel zur Werkstück­oberfläche bzw. Hal­te­rung von wei­te­ren Geräten (La­ser, Sen­so­ren etc.) zur Kon­trol­le oder Be­ein­flus­sung ein­sch­ließlich Gas­ver­sor­gung, Ab­sau­gung und Strah­lungs­schutz
  • Strom­quel­len ver­schie­de­ner Her­stel­ler (u.a. Fro­ni­us CMT ad­van­ced 4000R, EWM Pho­enix 521 pro­gress pul­se cold­arc) so­wie ei­ne frei pro­gram­mier­ba­re Quel­le (Top­Con Qua­dro)
  • Elek­tri­sche Mess­tech­nik und op­ti­sche Sen­so­rik (Pho­to­di­oden) zur Auf­nah­me von Zeit­rei­hen von Strom, Span­nung und Strah­lungs­si­gna­len in aus­gewähl­ten Spek­tral­be­rei­chen ein­sch­ließlich spe­zi­fi­scher Aus­wer­te­ver­fah­ren und spek­tral hoch­auflösen­de Mes­sun­gen von Spek­tren im Spek­tral­be­reich von 300 nm bis 900 nm bei ei­ner spek­tra­len Auflösung von ca. 0.05 nm
  • 0.5 bzw. 0.75 m Spek­tro­gra­phen mit in­ten­si­vier­ten CCD-Ka­me­ras (Ein­zel­bil­der mit Be­lich­tungs­zei­ten im Zeit­be­reich von ns bis ms) zur op­ti­schen Emis­si­ons­spek­tro­sko­pie, ins­be­son­de­re für zeit­lich, räum­lich und spek­tral hoch­auflösen­de Mes­sun­gen von Spek­tren im Spek­tral­be­reich von 300 nm bis 900 nm bei ei­ner spek­tra­len Auflösung von ca. 0.05 nm
  • Höchst­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra (4 un­abhängi­ge Bil­der in­ner­halb von z.B. 5 ns mit Be­lich­tungs­zei­ten ab 3 ns) so­wie Stre­ak­ka­me­ra (Zeit­auflösung 1 ns, ei­ne Orts­di­men­si­on) für die Be­ob­ach­tung von Zünd­vorgängen im ns-Be­reich
  • Ther­mo­gra­fie/Py­ro­me­trie zur berührungs­lo­sen Mes­sung von Tem­pe­ra­tu­ren von Oberflächen u.a. von Elek­tro­den
  • Rönt­gen­com­pu­ter­to­mo­gra­fie zur zerstörungs­frei­en Dia­gnos­tik von Elek­tro­den oder Werk­stoff­pro­ben

Die Dia­gnos­tik­ein­rich­tun­gen (Spek­tro­sko­pie, Hoch­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra und Ther­mo­gra­fie) sind auch mo­bil verfügbar und können für ex­ter­ne Mes­sun­gen ein­ge­setzt wer­den. 

Kontakt

Prof. Dr. Dirk Uhrlandt
Forschungsbereichsleiter Materialien und Energie

Tel.: +49 3834 - 554 461
uhrlandtinp-greifswaldde

Das La­bor ermöglicht an­wen­dungs­ori­en­tier­te Un­ter­su­chun­gen zu licht­tech­ni­schen Größen (Farb­ko­or­di­na­ten, Farb­tem­pe­ra­tur (K), Farb­wie­der­ga­be, Licht­aus­beu­te (lm/W)) und an­de­ren Leis­tungs­kenn­zah­len so­wie grund­le­gen­de Cha­rak­te­ri­sie­run­gen von ver­schie­dens­ten Licht- und Strah­lungs­quel­len, ins­be­son­de­re Plas­ma­l­am­pen und ih­re Elek­tro­den. Spe­zi­el­le Ex­per­ti­sen in der Aus­wer­tung er­lau­ben auch die Einschätzung der  bio­lo­gi­schen Wir­kung der Licht­quel­len.

Für die Un­ter­su­chung von Licht- und an­de­ren Strah­lungs­quel­len ste­hen um­fang­rei­che Dia­gnos­ti­ken zur Verfügung, ins­be­son­de­re:

  • Ver­suchsstände mit ge­eig­ne­ten Strom­ge­ne­ra­to­ren (frei wähl­ba­re Strom­form bis 28 A, 100 kHz) zur Nach­stel­lung ei­nes rea­lis­ti­schen Lam­pen­be­triebs 
  • Ul­bricht-Ku­gel mit 1.5 m Durch­mes­ser (Spek­tral­be­reich: 350 nm bis 850 nm, spek­tra­le Auflösung ca. 1 nm) für die Mes­sung des spek­tra­len Strah­lungs­flus­ses (W/nm) und des Licht­stroms (lm) 
  • Kom­pakt­spek­tro­me­ter (Spek­tral­be­reich: 300 nm bis 900 nm, spek­tra­le Auflösung ca. 1 nm) für die Mes­sung der spek­tra­len Be­strah­lungsstärke (W/(m²nm))
  • Ka­li­brier­te Leucht­dich­te­ka­me­ra zur Mes­sung der Leucht­dich­te (cd/m²) 
  • 0.5 bzw. 0.75 m Spek­tro­gra­phen mit in­ten­si­vier­ten CCD-Ka­me­ras (Prin­ce­ton In­stru­ments Pi­max 4) für zeit­lich, räum­lich und spek­tral hoch­auflösen­de Mes­sun­gen von Spek­tren im Spek­tral­be­reich von 300 nm bis 900 nm bei ei­ner spek­tra­len Auflösung von ca. 0.05 nm, ins­be­son­de­re zur Un­ter­su­chung des Bo­gen­plas­mas in Hoch­druck­lam­pen 
  • Höchst­ge­schwin­dig­keits­ka­me­ra für die Be­ob­ach­tung von Zünd­vorgängen im ns-Be­reich
  • Ther­mo­gra­fie/Py­ro­me­trie zur berührungs­lo­sen Mes­sung von Tem­pe­ra­tu­ren von Oberflächen mit be­kann­tem Emis­si­ons­vermögen, wie z.B. Quarz­glas oder Wolf­ramelek­tro­den bei Hoch­druck­lam­pen 
  • Rönt­gen­com­pu­ter­to­mo­gra­fie zur zerstörungs­frei­en Dia­gnos­tik von trans­lu­zen­ten Lam­penkörpern,  z.B. zur Un­ter­su­chung von Elek­tro­denrück­brand, Elek­tro­den­ver­for­mung oder Kor­ro­si­on der Brenn­erwand in Hoch­druck­lam­pen 
  • UV- und VUV-Spek­tro­sko­pie zur Ana­ly­se von Strah­lungs­quel­len, u.a. auch zur ab­so­lut ka­li­brier­ten Mes­sung der VUV-Ra­di­anz

Kontakt

Prof. Dr. Dirk Uhrlandt
Forschungsbereichsleiter Materialien und Energie

Tel.: +49 3834 - 554 461
uhrlandtinp-greifswaldde

Im Mit­tel­punkt der an­wen­dungs­ori­en­tier­ten For­schungs­ak­ti­vitäten ste­hen Un­ter­su­chun­gen zur Erhöhung der Le­bens­dau­er und Zu­verlässig­keit von elek­tro­tech­ni­schen Be­triebs­mit­teln un­ter be­son­de­rer Berück­sich­ti­gung von As­pek­ten der Um­welt­scho­nung und En­er­gie­ef­fi­zi­enz. Fol­gen­de The­men­ge­bie­te wer­den der­zei­tig in den La­bo­ren für Hoch­span­nungs- und Hoch­strom­tech­nik (am ge­mein­sa­men Lehr­stuhl der Uni­ver­sität Ros­tock) be­ar­bei­tet:

  • Elek­tri­sche Kon­tak­te und Ver­bin­dun­gen: Lang­zeit­sta­bi­lität (Al­te­rungs­ver­hal­ten), ther­mi­sche Aus­le­gung (Mo­del­lie­rung), Ge­stal­tung (Ma­te­ri­al und Oberflächen) 
  • Tei­l­ent­la­dungs­dia­gnos­tik und Ana­ly­se von elek­tri­schen Be­triebs­mit­teln und Kom­po­nen­ten 
  • Un­ter­su­chun­gen zum Al­te­rungs­ver­hal­ten von Iso­lier­stof­fen un­ter Ex­trem­be­din­gun­gen 
  • Licht­bo­gen­plas­men: Ex­pe­ri­men­te, Mo­del­lie­rung und Dia­gnos­tik von Schalt­lichtbögen

Für die Un­ter­su­chun­gen ste­hen La­bo­re für Hoch­strom- und Hoch­span­nung mit mo­der­ner Mess­geräte–Aus­stat­tung zur Verfügung. 

Hoch­span­nungs­la­bor mit di­gi­ta­lem Mess­sys­tem und Mess­ein­rich­tun­gen für Tei­l­ent­la­dun­gen (Grundstörpe­gel <1 pC), für Wech­sel­span­nung bis 100 kV, Gleich­span­nung bis 130 kV, Im­puls­span­nung 135 kV 

Tei­l­ent­la­dungs­dia­gnos­tik mit Tei­l­ent­la­dungs-Ana­ly­se­sys­tem (IEC 60270, UHF, Akus­tik), Wi­der­stands­mess­sys­tem (35 TÙ, Prüfspan­nung 10 kV), Dielectric re­s­pon­se ana­ly­zer (200V, 100 ìHz bis 5 kHz) 

Kli­ma­la­bor mit Kli­ma­kam­mer für Abkühl- und Erwärmungs­zy­klen (-70 - +180 °C), Wärme­schränke (+250 °C) 

Hoch­strom­la­bor mit Dau­er­strom­ver­suchsständen (max. 3000 A), Tem­pe­ra­tur­er­fas­sung mit­tels Ther­mo­sen­so­ren so­wie In­fra­rot­ka­me­ra­tech­nik

Kontakt

Prof. Dr. Dirk Uhrlandt
Forschungsbereichsleiter Materialien und Energie

Tel.: +49 3834 - 554 461
uhrlandtinp-greifswaldde

Nut­zung und Wei­ter­ent­wick­lung ver­schie­de­ner Me­tho­den der Plas­ma­dia­gnos­tik Im Fo­kus ste­hen fol­gen­de Me­tho­di­ken:

  • Absorptionsspektroskopie im UV-Vis-Mid-IR-Spektralbereich
  • Plasmamonitoring mittels Quantenkaskadenlasern
  • Laserinduzierte Fluoreszenz
  • Mikrowelleninterferometrie 50 und 150 GHz
  • Massenspektrometrie
  • Sondenmessung
  • optische Emissionsspektroskopie (UV-VIS)

Verschiedene Methoden sind auch für den mobilen Einsatz für Vor-Ort-Messungen geeignet.

Kontakt

Prof. Dr. Ronny Brandenburg 
Forschungsschwerpunktleiter Plasmachemische Prozesse

Tel.: +49 554 3818
brandenburginp-greifswaldde

Das INP Greifswald verfügt über ein mikrobiologisches Labor der Sicherheitsstufe 2 nach § 44 Infektionsschutzgesetz (IfSG), das Tätigkeiten mit Krankheitserregern gemäß § 49 IfSG und § 13 Biostoffverordnung erlaubt. Die aktuellen Forschungsarbeiten umfassen Phyto- und Humanpathogene der Risikogruppen 1 und 2. Die verwendeten Mikroorganismen sind:

  • Bacillus atrophaeusEndosporen
  • Candida albicans
  • Enterococcus faecium
  • Escherichia coli
  • Geobacillus stearothermophilusEndosporen
  • Listeria innocua
  • Listeria monocytogenes
  • Micrococcus luteus
  • Pectobacterium carotovorum
  • Pseudomonas fluorescens
  • Pseudomonas marginalis
  • SalmonellaEnteritidis
  • SalmonellaTyphimurium
  • Staphylococcus aureus

Darüber hinaus verfügt das Institut über Kooperationen mit akkreditierten und zertifizierten Prüflaboren im Bereich der Hygiene und nimmt innerhalb von Forschungsprojekten an Ringversuchen teil.

Kontakt

Prof. Dr. Thomas von Woedtke
Forschungsschwerpunktleiter Plasmamedizin

Tel.: +49 3834 - 554 445
woedtkeinp-greifswaldde

Ent­wick­lung von Plasmaquellen und Plas­ma­ver­fah­ren zur Des­in­fek­ti­on und Ste­ri­li­sa­ti­on von biorelevanten Materialien und Me­di­zin­pro­duk­ten; Hy­gie­ni­sie­rung von Le­bens­mit­tel­pro­duk­ten. 

Im Fo­kus der Ent­wick­lung ste­hen der­zeit fol­gen­de Sys­te­me:

  • Plasmagasverfahren zur Aufbereitung von Medizinprodukten
  • Plasmagasverfahren zur schonenden Haltbarmachung von Lebensmittelprodukten
  • Spezialplasmaquellen zum Einbau in Endoskope zur Unterstützung der Aufbereitung und für therapeutische Anwendungen
  • Plasmaverfahren zur antimikrobiellen Beschichtung

Ne­ben ver­schie­de­nen plas­ma­dia­gnos­ti­schen Me­tho­den (OES, LIF, MW-In­ter­fe­ro­me­trie) ste­hen zur Un­ter­su­chung und Op­ti­mie­rung der An­la­gen haus­in­ter­ne mi­kro­bio­lo­gi­sche La­bo­re zur Verfügung und können ex­ter­nen Nut­zerinnen und Nutzern zur Verfügung ge­stellt wer­den.

Kontakt

Prof. Jürgen Kolb
Forschungsschwerpunktleiter Dekontamination

Tel.: +49 3834 - 554 3950
juergen.kolb@inp-greifswald.de

Be­reit­stel­lung, Op­ti­mie­rung und Ent­wick­lung von Me­tho­den und Sys­te­men der Hoch­fre­quenz­tech­nik. Ihr Ein­satz er­streckt sich vom Klein­si­gnal­be­reich für dia­gnos­ti­sche An­wen­dun­gen bis hin zum Großsi­gnal­be­reich zum Trei­ben von Mi­kro­wel­len­plas­maquel­len.

Im Fo­kus ste­hen der­zeit fol­gen­de Sys­te­me:

  • (fre­quenz­auf­gelöste) Mi­kro­wel­len­in­ter­fe­ro­me­trie in lei­tungs­ge­bun­de­nen und frei ge­strahl­ten Sys­te­men bis 150 GHz
    • Elek­tro­nen­dich­te­be­stim­mung: 1012 – 1022 m-3, ∆t < 1 µs
    • Be­stim­mung von Per­mit­ti­vität und Per­me­a­bi­lität
  • Ent­wick­lung und Im­ple­men­tie­rung  von strahl­for­men­den Ele­men­ten (Spie­gel und Lin­sen) zur An­pas­sung von Gaußschen Strah­lengängen bis 150 GHz
  • fre­quenz­auf­gelöste Re­flek­to­me­trie in lei­tungs­ge­bun­de­nen und frei ge­strahl­ten Sys­te­men bis 50 GHz
    • Ein­tor-In­ter­fe­ro­me­trie zur Elek­tro­nen­dich­te­be­stim­mung
  • An­pas­sung und Op­ti­mie­rung von Me­tho­den der di­gi­ta­le Si­gnal­ver­ar­bei­tung
  • Ent­wick­lung von Mi­kro­wel­len­leis­tungs­kom­po­nen­ten zur Ma­ni­pu­la­ti­on von Streu­pa­ra­me­tern
    • Pha­sen­schie­ber
    • An­pas­sungs­netz­wer­ke
    • Mo­den­kopp­ler
    • Bar­rie­re­freie Re­ak­tor­zugänge
  • Ent­wick­lung von Mi­kro­wel­len­plas­maquel­len
    • Mi­ni-MIP (Leis­tun­gen < 100 W)
    • Plexc (Leis­tun­gen < 1500 W)

Die Ent­wick­lungs­ar­bei­ten in den auf­geführ­ten Tätig­keits­fel­dern wer­den durch nu­me­ri­sche Hilfs­mit­tel wie Mat­lab©, Com­sol Mul­ti­phy­sics© und CST Mi­cro­wa­ve Stu­dio© un­terstützt. Die da­mit er­ziel­ten Er­geb­nis­se können mit Hil­fe von Sys­te­men zur Netz­werkana­ly­se mit ei­nem Mess­be­reich bis hin zu 50 GHz va­li­diert wer­den.

Kontakt

Dr. Jörg Ehlbeck
Leitung Plasmabiotechnik

Tel.: +49 3834 - 554 458
ehlbeckinp-greifswaldde